2015年9月30日～10月2日に開催されましたICPT2015（International Conference on Planarization/CMP Technology）での発表論文「The Elastic Impact of Polishing Pad for Sapphire Polishing」（サファイア研磨における研磨パッド弾性効果）を技術情報ページにアップいたしました。

どうぞご覧ください。　https://www.nittadupont.co.jp/technical/542/