抛光先驱，引领发展。
自1980年代CMP（Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光）技术首次应用于半导体器件制造伊始，我们便作为抛光垫领域的领头企业，持续推动尖端技术的发展。
如今，我们不仅拥有全球领先市场份额的超高精度表面抛光垫，更提供抛光液、工件固定材料、修整器等全系列耗材，致力于为行业提供抛光用耗材的整体解决方案。通过与时俱进的技术革新，我们将不断为社会创造价值。
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(01)世界顶级市场份额的尖端技术凭借化学机械抛光抛光垫领域全球第一的量产实绩，以及40余年来积累的专业知识与技术沉淀，我们不断将尖端技术提升至更高的品质境界。不仅如此，我们还通过具有时代前瞻性的研发投入，始终保持着高端生产技术的领头企业地位。
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(02)客户至上的提案及应对能力由深谙抛光工艺与机理的专家团队组成的技术支持体系，能够应对客户的各类抛光需求，实现世界顶级水准的技术支持服务。我们针对客户的产品路线图与性能要求，开发并提案具有前瞻性的抛光整体解决方案。
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(03)高品质的产品、服务和优秀的员工我们不仅追求抛光整体解决方案中产品与技术的卓越，更注重对客户的深度支持与全方位服务。从制造、销售到提案，每位员工都以严谨细致的态度认真应对，努力确保每个环节的品质。我们将通过对细节的极致把控，努力不懈，为社会发展贡献力量。