
IC1000™系列
作为化学机械抛光(CMP)垫片的行业标准,“IC1000™系列”已被广泛应用于各种化学机械抛光工艺场景。尽管产品配方始终保持不变,但20余年以来其品质与稳定性一直持续提升。
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工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI ・ 酸化膜 ・ Buff ・ ポリシリコン
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機能
段差解消性 ・ 高研磨レート
我们提供发泡聚氨酯抛光垫、无纺布垫和绒毛垫系列产品,广泛适用于半导体器件、硅晶片、化合物晶片、玻璃衬底等多种应用场景。
尤其通过特殊发泡技术与硅晶片领域积累的专有技术相融合,我们的产品不仅能发挥顶尖的抛光性能,而且自1980年化学机械抛光(CMP)工艺首次引入半导体器件制造之初,便作为抛光垫行业的领头企业,积累了丰富的实践经验与技术洞察。
作为化学机械抛光(CMP)垫片的行业标准,“IC1000™系列”已被广泛应用于各种化学机械抛光工艺场景。尽管产品配方始终保持不变,但20余年以来其品质与稳定性一直持续提升。
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工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI ・ 酸化膜 ・ Buff ・ ポリシリコン
機能
段差解消性 ・ 高研磨レート
“VisionPad™系列”是专为化学机械抛光(CMP)设计的平台化产品,可适配多种应用场景与先进制程节点。通过采用优化孔径尺寸及特殊孔隙率的独家高分子化学材料构成,可提供符合不同工艺要求的多样化抛光特性选择。
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工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI ・ 酸化膜 ・ Buff ・ ポリシリコン
機能
ウェーハ欠陥低減 ・ 段差解消性 ・ 高研磨レート
作为化学机械抛光(CMP)领域具有划时代意义的垫片平台,“Ikonic™系列”可适配多种应用场景与先进制程节点。最新的CMP抛光垫技术通过组合不同硬度与孔隙率的材料,并配备可调式垫片表面,有效减少晶片缺陷,提升抛光效率与平坦度,助力客户优化工艺成本。
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工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI ・ 酸化膜 ・ Buff ・ ポリシリコン ・ STI/セリア ・ Cuバリア
機能
ウェーハ欠陥低減 ・ 低エロージョン ・ 段差解消性 ・ 高研磨レート
MH™系列的下一代产品——“EXTERION™系列” 在最尖端晶片制造工艺等多样化应用场景中,助力品质提升。
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工程
一次研磨
機能
ウェーハ欠陥低減 ・ ウェーハ端部平坦性 ・ 高研磨レート
“MH™系列”是基于卓越的发泡控制技术诞生的聚氨酯抛光垫,主要适用于硅晶片的初抛与半精抛工序。该产品可满足200mm及300mm晶片的高平坦化抛光需求。
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工程
一次研磨
機能
コスト低減
“Suba™产品系列”是以无纺布为基础的抛光垫,主要适用于硅晶片的初抛、半精抛及终抛工序。该产品具有高去除速率、高平坦度与低缺陷特性,可广泛应用于GaAs、InP、LiTaO₃、LiNbO₃等多种晶片材料。
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工程
エッジ研磨工程 ・ 一次研磨
機能
ウェーハ端部平坦性 ・ ウェーハ端部形状追従性 ・ 高研磨レート
“Suba™产品系列”是以无纺布为基础的抛光垫,主要适用于硅晶片的初抛、半精抛及终抛工序。该产品具有高去除速率、高平坦度与低缺陷特性,可广泛应用于GaAs、InP、LiTaO₃、LiNbO₃等多种晶片材料。
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工程
仕上げ研磨 ・ 二次研磨 ・ 一次研磨
機能
ウェーハ欠陥低減 ・ ウェーハ端部平坦性
“Suba™产品系列”是以无纺布为基础的抛光垫,主要适用于硅晶片的初抛、半精抛及终抛工序。该产品具有高去除速率、高平坦度与低缺陷特性,可广泛应用于GaAs、InP、LiTaO₃、LiNbO₃等多种晶片材料。
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工程
エッジ研磨工程 ・ 仕上げ研磨 ・ 二次研磨 ・ 一次研磨
機能
ウェーハ欠陥低減 ・ ウェーハ端部平坦性 ・ ウェーハ端部形状追従性 ・ 高研磨レート
作为业界标准软质抛光垫的“Supreme™系列”。被用于化学机械抛光(CMP)的铜阻挡层抛光和缓冲抛光。
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工程
Buff ・ 仕上げ研磨
機能
コスト低減 ・ バッチ間安定性 ・ 高研磨レート
“Optivision™系列“是杜邦及霓达杜邦公司推出的化学机械抛光(CMP)用第二代软质抛光垫。该系列以提高Supreme™系列性能、降低综合使用成本为目标设计。
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工程
Buff ・ Cuバリア
機能
ウェーハ欠陥低減 ・ コスト低減 ・ 高研磨レート
Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.
IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.
Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.
DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.