Supreme™系列

作为业界标准软质抛光垫的“Supreme™系列”。被用于化学机械抛光(CMP)的铜阻挡层抛光和缓冲抛光。

用途
半导体/硅晶片/其他

Supreme™ RN-H

用途
半导体/硅晶片/其他
工艺
Buff ・ 终精抛
功能
高抛光去除速率

Supreme™ RN-R

用途
半导体/硅晶片/其他
工艺
Buff ・ 终精抛
功能
降低成本 ・ 批次间稳定性

(01) Polishing Pad 抛光垫

Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.

IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.