Ikonic™系列

作为化学机械抛光（CMP）领域具有划时代意义的垫片平台，“Ikonic™系列”可适配多种应用场景与先进制程节点。最新的CMP抛光垫技术通过组合不同硬度与孔隙率的材料，并配备可调式垫片表面，有效减少晶片缺陷，提升抛光效率与平坦度，助力客户优化工艺成本。

用途
半导体

Ikonic™4121H

用途
半导体
工艺
块状铜 ・ 钨 ・ STI
功能
高抛光去除速率 ・ 低侵蚀 ・ 减少晶片缺陷

Ikonic™4140H

用途
半导体
工艺
氧化膜 ・ STI/Ceria ・ 钨 ・ 多晶硅
功能
高抛光去除速率 ・ 低侵蚀 ・ 减少晶片缺陷

Ikonic™4250H

用途
半导体
工艺
块状铜 ・ 钨 ・ STI ・ 多晶硅
功能
高抛光去除速率 ・ 台阶消除 ・ 减少晶片缺陷

Ikonic™2010H

用途
半导体
工艺
铜阻挡层 ・ Buff
功能
减少晶片缺陷

Ikonic™2060H

用途
半导体
工艺
铜阻挡层 ・ Buff
功能
减少晶片缺陷

(01) Polishing Pad 抛光垫

Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.

IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.

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