Nanopure™系列
“Nanopure™系列”是用于硅晶片初抛、半精抛、精抛、及边缘抛光的抛光液产品。该系列能稳定发挥高平坦度、低缺陷率、高生产效率等卓越抛光性能。
Debug
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工程
Cuバルク ・ ポリシリコン
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機能
高選択性 ・ ウェーハ欠陥低減 ・ 高研磨レート
凭借抛光垫与抛光液的协同效应，实现最佳表面处理。
我们的抛光液产品线覆盖硅晶片初抛、半精抛、精抛及边缘抛光，适用于蓝宝石、钽酸锂/铌酸锂等化合物晶片以及玻璃衬底等多种场景，同时提供氧化膜、钨、铜阻挡层等专用抛光液，全面满足多样化应用需求。
通过与全球市场份额首位的抛光垫之间的协同效应，我们能够实现卓越的平整度与均匀性，为客户打造最佳表面处理方案。
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Nanopure™系列
“Nanopure™系列”是用于硅晶片初抛、半精抛、精抛、及边缘抛光的抛光液产品。该系列能稳定发挥高平坦度、低缺陷率、高生产效率等卓越抛光性能。
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-
工程
ポリシリコン ・ 一次研磨
-
機能
超高研磨レート
Nanopure™系列
“Nanopure™系列”是用于硅晶片初抛、半精抛、精抛、及边缘抛光的抛光液产品。该系列能稳定发挥高平坦度、低缺陷率、高生产效率等卓越抛光性能。
Debug
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工程
仕上げ研磨 ・ 二次研磨 ・ 一次研磨 ・ DSPリンス ・ エッジ研磨
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機能
ウェーハ端部高平坦性 ・ 自然酸化膜除去効率性 ・ エッジ形状最適化 ・ 不純物金属低減 ・ ウェーハ欠陥低減 ・ ウェーハ表面粗さ低減 ・ コスト低減 ・ 高研磨レート
Nanopure™系列
“Nanopure™系列”是用于硅晶片初抛、半精抛、精抛、及边缘抛光的抛光液产品。该系列能稳定发挥高平坦度、低缺陷率、高生产效率等卓越抛光性能。
Debug
-
工程
Cuバルク ・ ポリシリコン ・ 仕上げ研磨 ・ 二次研磨 ・ 一次研磨 ・ DSPリンス ・ エッジ研磨
-
機能
ウェーハ端部高平坦性 ・ 超高研磨レート ・ 自然酸化膜除去効率性 ・ エッジ形状最適化 ・ 不純物金属低減 ・ 高選択性 ・ ウェーハ欠陥低減 ・ ウェーハ表面粗さ低減 ・ コスト低減 ・ 高研磨レート
Machplaner™系列
“Machplaner™系列”是用于蓝宝石等化合物抛光，以及钽酸锂衬底、铌酸锂衬底等氧化物抛光的抛光液产品。通过磨料的最优配比，实现高去除速率与高表面质量。
Debug
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工程
仕上げ研磨 ・ 一次研磨
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機能
低摩擦抵抗 ・ 高選択性 ・ ウェーハ表面粗さ低減 ・ 高研磨レート
ILD™系列
“ILD™系列”是凭借卓越的分散技术实现烟熏磨料性能稳定的高品质抛光液。凭借高质量的低缺陷性能与抛光效率等特性，助力客户实现工艺优化。
Debug
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工程
酸化膜
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機能
ウェーハ欠陥低減 ・ 高研磨レート
Acuplane™系列
“Acuplane™系列”是针对可调控选择比的铜阻挡层及TSV应用推出的抛光液产品线。该系列在半导体逻辑和存储器生产过程中展现出可预期的特性表现，同时适用于成熟制程节点与先进制程节点的生产需求。
Debug
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工程
Cuバリア ・ TSV
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機能
コスト低減 ・ 高研磨レート
Novaplane™系列
“Novaplane™系列”是具备高抛光效率与可调控选择比特性的钨（W）抛光液产品线。该系列凭借卓越的平坦化特性、缺陷控制特性以及帮助客户降低成本的优势，满足钨化学机械抛光（CMP）领域的客户需求。
Debug
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工程
タングステン
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機能
コスト低減 ・ 段差解消性 ・ 高研磨レート
Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.
IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.
Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.
DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.
