VisionPad™系列

“VisionPad™系列”是专为化学机械抛光（CMP）设计的平台化产品，可适配多种应用场景与先进制程节点。通过采用优化孔径尺寸及特殊孔隙率的独家高分子化学材料构成，可提供符合不同工艺要求的多样化抛光特性选择。

用途
半导体

VisionPad™6000

用途
半导体
工艺
块状铜 ・ 钨 ・ STI ・ 氧化膜
功能
高抛光去除速率 ・ 减少晶片缺陷

VisionPad™7480

用途
半导体
工艺
块状铜 ・ 钨 ・ STI ・ 氧化膜 ・ Buff ・ 多晶硅
功能
高抛光去除速率 ・ 减少晶片缺陷

VisionPad™9280

用途
半导体
工艺
块状铜
功能
高抛光去除速率 ・ 减少晶片缺陷

VisionPad™5000

用途
半导体
工艺
钨 ・ STI ・ 氧化膜
功能
高抛光去除速率 ・ 台阶消除 ・ 减少晶片缺陷

(01) Polishing Pad 抛光垫

Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.

IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.

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