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Technical Center テクニカルセンター
最適表面を創出する、
グローバルNo.1パートナーへ。
グローバルNo.1パートナーへ。
研磨パッド・研磨スラリーから、ワーク保持材・コンディショナーまで、総合的に研磨用消耗資材を製造・販売しているニッタ・デュポン。お客様サイドの視点に立ち、あらゆるアプリケーションに対応した、トータルソリューションの提供・提案を可能にしています。
京都工場に併設しているテクニカルセンター Technical Center at Kyoto Plant
一般室作業エリアに加え、クラス1000・100・10のクリーンルームを有しており、シリコンウェーハ・半導体デバイスウェーハ・化合物ウェーハなど、さまざまな用途に応じた研磨・洗浄・測定までの評価を一貫して行うことが可能です。
最先端の設備導入
お客様が実際に使われている最新の研磨設備・計測設備を導入することで、お客様と同じ環境での研磨試験を実現。最新のトレンドにも対応した、製品開発・製品提案にも役立てられています。洗浄設備の充実とさらなる技術向上を目指しています。
シリコンウェーハ
研磨装置
研磨装置
半導体研磨装置
ウェーハ計測装置
3次元白色光干渉型顕微鏡(Bruker社製 Contourシリーズ)
AFM、欠陥検査装置、光学顕微鏡など
アプリケーションエンジニアリングサポート
ニッタ・デュポンの「アプリケーションエンジニアリングサポート」は、お客様が立ち会いのもとで研磨評価を実施。その場で結果をレビューしながら、技術者同士がディスカッションを行うことで、双方の理解を深めながら次のアクションも迅速になる、顧客ファーストに基づく価値のひとつとして考えています。
アプリケーションエンジニアと研磨装置、測定機器の特性を熟知したオペレーションメンバーが在籍しています。
アプリケーションエンジニアと研磨装置、測定機器の特性を熟知したオペレーションメンバーが在籍しています。
研磨試験の実証・検証
CMP［Chemical Mechanical Polishing（化学的機械研磨）］のアプリケーションエンジニアや、研磨パッド・研磨スラリーの技術開発メンバーが、製品開発・製品提案を行うにあたりクリーンルームにて研磨試験を実施。長年の研究開発で培ってきた研磨実績や、それぞれの専門分野での知見・技能を駆使して、さまざまな条件で試験を繰り返しながら、販売・提案できる製品を開発していきます。
