
Nanopure™シリーズ(半導体)
シリコンウェーハの一次研磨・二次研磨・仕上げ研磨・エッジ研磨用である、『Nanopure™シリーズ』。高平坦性・低欠陥・高生産性など、優れた研磨性能を安定して発揮しています。
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工程
Cuバルク ・ ポリシリコン
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機能
高選択性 ・ ウェーハ欠陥低減 ・ 高研磨レート
シリコンウェーハの一次研磨用・二次研磨用・仕上げ研磨用・エッジ研磨用や、化合物ウェーハとしてサファイア研磨用・タンタル酸リチウム/ニオブ酸リチウム研磨用、ガラス基板用に加え、酸化膜用・タングステン用・Cuバリア用などの研磨スラリーも幅広く取り揃え、さまざまなアプリケーションに対応。
世界トップシェアの研磨パッドとの相乗効果により、平面性・均一性を極めた最適表面の創出を実現しています。
シリコンウェーハの一次研磨・二次研磨・仕上げ研磨・エッジ研磨用である、『Nanopure™シリーズ』。高平坦性・低欠陥・高生産性など、優れた研磨性能を安定して発揮しています。
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工程
Cuバルク ・ ポリシリコン
機能
高選択性 ・ ウェーハ欠陥低減 ・ 高研磨レート
シリコンウェーハの一次研磨・二次研磨・仕上げ研磨・エッジ研磨用である、『Nanopure™シリーズ』。高平坦性・低欠陥・高生産性など、優れた研磨性能を安定して発揮しています。
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工程
ポリシリコン ・ 一次研磨
機能
超高研磨レート
シリコンウェーハの一次研磨・二次研磨・仕上げ研磨・エッジ研磨用である、『Nanopure™シリーズ』。高平坦性・低欠陥・高生産性など、優れた研磨性能を安定して発揮しています。
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工程
仕上げ研磨 ・ 二次研磨 ・ 一次研磨 ・ DSPリンス ・ エッジ研磨
機能
ウェーハ端部高平坦性 ・ 自然酸化膜除去効率性 ・ エッジ形状最適化 ・ 不純物金属低減 ・ ウェーハ欠陥低減 ・ ウェーハ表面粗さ低減 ・ コスト低減 ・ 高研磨レート
シリコンウェーハの一次研磨・二次研磨・仕上げ研磨・エッジ研磨用である、『Nanopure™シリーズ』。高平坦性・低欠陥・高生産性など、優れた研磨性能を安定して発揮しています。
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工程
Cuバルク ・ ポリシリコン ・ 仕上げ研磨 ・ 二次研磨 ・ 一次研磨 ・ DSPリンス ・ エッジ研磨
機能
ウェーハ端部高平坦性 ・ 超高研磨レート ・ 自然酸化膜除去効率性 ・ エッジ形状最適化 ・ 不純物金属低減 ・ 高選択性 ・ ウェーハ欠陥低減 ・ ウェーハ表面粗さ低減 ・ コスト低減 ・ 高研磨レート
サファイアなどの化合物研磨や、LiTaO3基板・LiNbO3基板などの酸化物研磨に使用されている、『Machplaner™シリーズ』。砥粒の最適な配合により、高研磨レートや高表面品質を実現しています。
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工程
仕上げ研磨 ・ 一次研磨
機能
低摩擦抵抗 ・ 高選択性 ・ ウェーハ表面粗さ低減 ・ 高研磨レート
優れた分散技術により、ヒュームドシリカ砥粒の性能を安定させた高品質な『ILD™シリーズ』。ハイクオリティな低欠陥性能や研磨効率などの特性により、お客様のプロセス改善を実現しています。
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工程
酸化膜
機能
ウェーハ欠陥低減 ・ 高研磨レート
調整可能な選択性を持つCuバリアや、TSV用のラインナップである『Acuplane™シリーズ』。半導体ロジックやメモリー生産プロセスにおいて想定可能な特性を示し、成熟デバイスノードと先端デバイスノードの両方の生産に提供されています。
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工程
Cuバリア ・ TSV
機能
コスト低減 ・ 高研磨レート
高い研磨効率と調整可能な選択性の特性を持つ、タングステン(W)スラリーのラインナップである、『Novaplane™シリーズ』。優れた平坦特性や欠陥低減特性、お客様でのコスト削減など、タングステンCMP研磨における顧客のニーズに応えています。
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工程
タングステン
機能
コスト低減 ・ 段差解消性 ・ 高研磨レート
Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.
IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.
Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.
DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.