弊社はCMP工程が半導体デバイス製造に適用されはじめた1980年当初より研磨パッドのリーディングカンパニーとして多くの実績と知見を蓄積してきました。現在では豊富な種類のパッドに加えてスラリー、コンディショナーもラインナップしており、お客様の多種多様なリクエストにスピーディーにお答えすべく万全の体制を整えています。
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