Ikonic™シリーズ

化学的機械研磨（CMP）用の画期的なパッドプラットフォームであり、複数の用途や先進的なノードに対応している『Ikonic™シリーズ』。最新CMP研磨パッド技術は、さまざまなパッド硬度と異なる孔隙率を組み合わせ、調整が容易なパッド表面を備えることで、ウェーハの欠陥を減らし、研磨効率や平坦性、お客様でのプロセスコストを改善するように設計されています。

用途
半導体

Ikonic™4121H

用途
半導体
工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI
機能
高研磨レート ・ 低エロージョン ・ ウェーハ欠陥低減

Ikonic™4140H

用途
半導体
工程
酸化膜 ・ STI/セリア ・ タングステン ・ ポリシリコン
機能
高研磨レート ・ 低エロージョン ・ ウェーハ欠陥低減

Ikonic™4250H

用途
半導体
工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI ・ ポリシリコン
機能
高研磨レート ・ 段差解消性 ・ ウェーハ欠陥低減

Ikonic™2010H

用途
半導体
工程
Cuバリア ・ Buff
機能
ウェーハ欠陥低減

Ikonic™2060H

用途
半導体
工程
Cuバリア ・ Buff
機能
ウェーハ欠陥低減

(01) Polishing Pad 研磨パッド

Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.

IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.

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