VisionPad™シリーズ

化学的機械研磨（CMP）用に設計されたプラットフォームであり、複数の用途や先進的なノードに対応している、『VisionPad™シリーズ』。最適化された空孔のサイズと、孔隙率を含む独自のポリマー化学で構成されていることにより、プロセス要件に応じたさまざまな研磨特性オプションを提供しています。

用途
半導体

VisionPad™6000

用途
半導体
工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI ・ 酸化膜
機能
高研磨レート ・ ウェーハ欠陥低減

VisionPad™7480

用途
半導体
工程
Cuバルク ・ タングステン ・ STI ・ 酸化膜 ・ Buff ・ ポリシリコン
機能
高研磨レート ・ ウェーハ欠陥低減

VisionPad™9280

用途
半導体
工程
Cuバルク
機能
高研磨レート ・ ウェーハ欠陥低減

VisionPad™5000

用途
半導体
工程
タングステン ・ STI ・ 酸化膜
機能
高研磨レート ・ 段差解消性 ・ ウェーハ欠陥低減

(01) Polishing Pad 研磨パッド

Supreme™, MH™, EXTERION™, ILD™, Nanopure™ and Machplaner™ are trademarks of NITTA DuPont Incorporated.

IC1000™ is a trademark or service mark of NITTA DuPont Incorporated or affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

Suba™, VisionPad™, Ikonic™, Optivision™, Acuplane™, Optiplane™ and Novaplane™ are trademarks, service marks or registered trademarks of affiliates of DuPont de Nemours, Inc.

DiaGrid ® and Pyradia ® are registered trademarks of KINIK Company.

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